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[IR52 장영실상] 피케이엘 개발주역들

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2004-02-20

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최상수 피케이엘 부설연구소장은 "0.13㎛ 이하급의 반도체 소자를 양산할 수 있는 기술을 확립하기 위해 반투과형 위상반전 포토마스크공정기술을 개발하고자 했다"며 "피케이엘이 국제적 경쟁력을 지니기위해서는 이 기술의 독자 개발이 필수라는 생각에 개발에 착수했다"고 말했다.

이동혁 연구팀장은 "이 제품을 연구개발한 시기는 회사가 경영난을겪고 있던 때였다"며 "이 시기에 몇몇 생산라인은 가동이 중단되기도했다"고 회고했다. 그는 "어려운 위기를 오히려 기회로 삼아 유휴 생산라인을 이용해 연구한 결과 개발에 성공했다"고 말했다.

윤시열 연구원은 "기존 일반 포토마스크와는 달리 전혀 새로운 물질몰리브데늄'을 도입하면서 관련 자료 수집에 어려움이 많았다"며 "연구과정에서 예상하지 못했던 문제점들이 끊임없이 발생했다"고 말했다. 윤 연구원은 "이번 제품 개발이 첨단 포토마스크를 100% 국산화했다는 자부심을 심어줬을 뿐 아니라 차세대 마스크 개발에도 큰자신감을 갖게 했다"고 말했다.

최세종 연구원은 "이 연구개발은 세계 반도체의 고도집적화 추세에따른 시기적절한 기술적 대응이었다"고 덧붙였다.

매일경제 2002-11-17 15:57:40

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