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제목 국무총리상…에이피티씨 `반도체 200㎜ 메탈식각 시스템`
등록일 2007-02-22
내용










국무총리상…에이피티씨 `반도체 200㎜ 메탈식각 시스템`


 
















◆2006년을 빛낸 장영실상◆

"반도체 메모리 분야에서는 우리나라가 전 세계 1, 2위를 달리고 있지만 반도체 장비 분야에서는 선진 기술에 뒤떨어져 있다는 것을 항상 안타깝게 생각하고 있었습니다 . 식각 장비를 국산화함으로써 외국산 장비와 견줄 수 있게 됐다는 데 의미를 두고 있습니다 ."

반도체 주재료인 웨이퍼 위에 형성된 패턴에 따라 하부막을 제거하는 반도체 식각 공정에 이용하는 `반도체 200㎜ 메탈식각 시스템`을 개발해 2006년 IR52장영실상 국무총리상을 거머쥔 김남헌 대표는 수상 소감을 이렇게 표현했다.

에이피티씨는 플라즈마 발생 장치에 대한 원천기술은 물론 `반도체 웨이퍼 식각용 ACP 소스` 기술이 2005년 대한민국 10대 신기술에 선정되는 등 식각용 장비를 국산화할 수 있는 기본적인 개발력을 갖추고 있었기에 이번 제품 생산도 가능했다고 자평했다.

반도체 웨이퍼 식각장비의 세계시장 규모는 연간 50억~60억달러(5조~6조원) 규모로 매년 상승하는 추세다.

이 중 국내 시장은 10%에 가까운 5000억~6000억원을 차지하고 있지만 국내 반도체 소자회사에서 보유하고 있는 약 1500대의 200㎜ 웨이퍼 식각용 챔버는 전량 수입에 의존하고 있다.

회사측은 2004년 국내 최초로 메탈 식각챔버를 하이닉스반도체 양산라인에 판매해 2005년 매출 130억원을 올렸으며, 2008년까지 연간 2000억원 이상의 매출을 올릴 것으로 예상했다.




















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