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| 제목 | [제50주 IR52 장영실상] 금호석유화학, 반도체 생산원가 절감에 기여 |
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| 등록일 | 2006-12-11 |
| 내용 |
[IR52 장영실상] 금호석유화학, 반도체 생산원가 절감에 기여 ◆IR52 장영실상 / 금호석유화학 [반도체 제조용 ArF 감광액]◆ 석유화학업체인 금호석유화학(대표 김흥기)이 반도체 생산공정에서 미세회로 패턴 형성에 사용되는 `ArF 감광액`으로 제50주 IR52 장영실상을 수상했다.
이 제품은 ArF(193㎚ 파장)광을 사용해 60~100나노 미세 패턴을 구현할 수 있는 게 특징이다.
금호석유화학은 1997년 말 개발하기 시작해 8년 후인 2005년 말 상용화했을 정도로 오랫동안 공을 들였으며 개발비만 137억원을 투입했다.
핵심기술은 △주 원재료인 레신 설계ㆍ합성기술 △PAG(산발생제) 설계ㆍ합성 기술 △ArF 감광액 조제 기술 △불순물 컨트롤 기술 △ArF 감광액 대량생산 기술 등 5가지다.
`ArF 감광액` 기술은 우수한 해상도와 공정마진을 자랑하면서 생산공정도 단축해 반도체 생산시 수율을 높이고 생산원가를 절감시키는 효과를 가져올 것으로 보인다.
ArF 감광액과 제품을 구성하는 원재료는 모두 독자기술로 개발했으며 회사측은 국내특허 7건과 국외특허 20건을 출원했다.
ArF 감광액 성분 90% 이상을 국산화함으로써 수입대체 효과와 기업이미지 제고 효과가 큰 것으로 분석된다.
특히 국산화로 경쟁사보다 20% 정도 낮은 가격으로 제품을 공급하는 등 가격경쟁력이 우수한 것도 장점이다.
또 국내 반도체산업의 지속적인 우위 유지를 위한 핵심재료 기술을 확보해 반도체업체의 신속한 제품개발에 기여할 것으로 기대되고 있다.
2005년부터 형성되기 시작한 ArF 감광액 시장은 2010년까지 연평균 50% 이상 성장할 것으로 보인다.
세계 시장 규모도 올해 2500억원에서 2009년에는 8700억원으로 커지고 국내 시장도 같은 기간 500억원에서 1700억원으로 확대될 것으로 예상된다.
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