이 장비는 반도체 제조공정 과정에서 실리콘 웨이퍼상에 형성된 회로 패턴 외에 불필요한 부분을 제거하는 기능을 하며 지름 200㎜ 웨이퍼용이다. APTC는 300㎜ 웨이퍼 식각 장비도 개발하고 있다.

◆ 제품ㆍ기술 특징＝APTC는 기술적인 어려움을 극복하고 독창적으로 제작한 특수코일을 이용해 플라즈마 발생 소스를 만들어냈으며 반도체 공정에 적합하게 재설계하는 데 성공했다.

오영근 연구소장은 "플라즈마 발생 소스는 CCP(용량성 결합 플라즈마) 방식과 ICP(유도성 결합 플라즈마) 방식으로 나뉘는데 APTC가 개발한 ACP(순응성 결합 플라즈마) 방식은 두 가지 방식 장점을 모두 가지고 있어 낮은 플라즈마 소스 파워로 높은 수율을 올릴 수 있었다"고 설명했다.

오 소장은 "600W의 낮은 플라즈마 소스 파워로 인해 공정영역이 넓어졌고 식각 속도와 선택비를 조절할 수 있게 돼 생산성이 높아졌으며 유지비와 소모품 비용을 줄일 수 있게 됐다"고 덧붙였다.

APTC 식각 시스템은 산업자원부에서 선정한 2005년 대한민국 10대 신기술에도 올랐다.

◆ 경제 파급 효과＝반도체 웨이퍼 식각 장비 세계시장 규모는 약 6조원이며 국내시장 규모는 약 6000억원으로 해마다 시장 규모가 커지고 있다.

오 소장은 "APTC가 국내 최초로 반도체 웨이퍼 식각 장비 양산에 성공해 상당한 수입대체 효과와 함께 세계시장에 수출하는 효과를 누릴 수 있게 됐다"고 자부했다.

APTC는 2004년 첫 매출을 올린 데 이어 2005년에는 130억원을 기록했고 2006년에는수출을 포함해 약 500억원을 기대하고 있다. 앞으로 미국 AMAT와 LAM, 일본 TEL에이은 세계 4대 반도체 웨이퍼 식각 장비업체 대열에 합류할 것이라고 APTC는 전망했다.

하지만 앞으로 국산화율을 더욱 높여야 한다는 점은 과제로 꼽힌다.