IR52 장영실상
| 2012
| 10
| 소재.환경
| 조용일
| 엘지화학
| 3D FPR (Film Patterned Retarder)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 10
| 소재.환경
| 신부건
| 엘지화학
| 3D FPR (Film Patterned Retarder)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 10
| 소재.환경
| 홍경기
| 엘지화학
| 3D FPR (Film Patterned Retarder)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 10
| 소재.환경
| 김반석
| 엘지화학
| 3D FPR (Film Patterned Retarder)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 10
| 소재.환경
| 박문수
| 엘지화학
| 3D FPR (Film Patterned Retarder)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 6
| 의약.생명.화학.고분자
| 김창희
| 삼성토탈주식회사
| Clear/Super Impact 폴리프로필렌 (CSPP)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 6
| 의약.생명.화학.고분자
| 김은일
| 삼성토탈주식회사
| Clear/Super Impact 폴리프로필렌 (CSPP)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 6
| 의약.생명.화학.고분자
| 전용성
| 삼성토탈주식회사
| Clear/Super Impact 폴리프로필렌 (CSPP)
|
IR52 장영실상
| 2012
| 6
| 의약.생명.화학.고분자
| 박재옥
| 삼성토탈주식회사
| Clear/Super Impact 폴리프로필렌 (CSPP)
|
IR52 장영실상
| 2011
| 52
| 전기.전자
| 경계현
| 삼성 전자 주식회사
| 21nm MLC 64Gb NAND Flash
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